X-ray beam monitoring and source position stabilization at an inverse-Compton X-ray source

Benedikt Günther, Martin Dierolf, Klaus Achterhold, Franz Pfeiffer

Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/KonferenzbandKonferenzbeitragBegutachtung

Abstract

Overlap between laser- and electron beam determines flux at inverse-Compton X-ray sources. Beam drifts deteriorate flux and source position. A closed-loop feedback system counteracting this movement was developed to stabilize source position.

OriginalspracheEnglisch
TitelCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2018
Herausgeber (Verlag)Optica Publishing Group (formerly OSA)
ISBN (Print)9781943580408
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2018
VeranstaltungCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2018 - Strasbourg, Frankreich
Dauer: 26 März 201828 März 2018

Publikationsreihe

NameOptics InfoBase Conference Papers
BandPart F85-EUVXRAY 2018
ISSN (elektronisch)2162-2701

Konferenz

KonferenzCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2018
Land/GebietFrankreich
OrtStrasbourg
Zeitraum26/03/1828/03/18

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „X-ray beam monitoring and source position stabilization at an inverse-Compton X-ray source“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

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