Originalsprache | Englisch |
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Seiten (von - bis) | 1-93 |
Seitenumfang | 93 |
Fachzeitschrift | Applied Surface Science |
Jahrgang | 482 |
DOIs | |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 15 Juli 2019 |
Towards Oxide Electronics: a Roadmap
M. Coll, J. Fontcuberta, M. Althammer, M. Bibes, H. Boschker, A. Calleja, G. Cheng, M. Cuoco, R. Dittmann, B. Dkhil, I. El Baggari, M. Fanciulli, I. Fina, E. Fortunato, C. Frontera, S. Fujita, V. Garcia, S. T.B. Goennenwein, C. G. Granqvist, J. Grollier
- CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Barcelona (ICMAB)
- Walther-Meissner-Institut
- Technische Universität München
- Unité Mixte de Physique CNRS/Thales
- Max Planck Institute for Solid State Research
- Tallers 13
- University of Science and Technology of China
- University of Pittsburgh
- Pittsburgh Quantum Institute
- University of Salerno
- Forschungszentrum Jülich (FZJ)
- University Paris-Sud
- Cornell University College of Engineering
- Universit̀ Degli Studi di Milano-Bicocca
- Universidade NOVA de Lisboa (UNL)
- Universidade Nova de Lisboa
- Kyoto University
- Technische Universität Dresden
- Uppsala University
- Nanosystems Initiative Munich
- École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
- National Institute for Materials Science
- University of Twente
- Chalmers University of Technology
- University of Dundee
- Campus UAB
- University of Cambridge
- IMM-CNR
- 01187 Dresden
- University of Arkansas
- Universitat Politecnica de Valencia
- Technical University of Denmark
- Cornell University Laboratory of Atomic and Solid State Physics
- Aachen University of Technology
- Jožef Stefan Institute
- Institut fur Metallische Werkstoffe
- Complesso Universitario di Monte sant'Angelo
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung
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Zitate
(Scopus)