Zur Hauptnavigation wechseln Zur Suche wechseln Zum Hauptinhalt wechseln

Modelling of ion-induced charge generation in high voltage diodes

  • Technische Universität München

Publikation: KonferenzbeitragPapierBegutachtung

1 Zitat (Scopus)

Abstract

In this work we present a model which is able to describe the initial injection of charge caused by the loss of kinetic energy of a single ion penetrating a semiconductor power device. Two-dimensional simulations of a reverse biased power diode yield the temporal and spatial evolutions of the electric field as well as the carrier densities in the interior of the device initiated by the ion-induced charge plasma. For sufficiently high biases strong charge multiplication suddenly sets on which conforms to recent experimental findings.

OriginalspracheEnglisch
Seiten223-226
Seitenumfang4
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2001
Veranstaltung13th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD'01) - Osaka, Japan
Dauer: 4 Juni 20017 Juni 2001

Konferenz

Konferenz13th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD'01)
Land/GebietJapan
OrtOsaka
Zeitraum4/06/017/06/01

UN SDGs

Dieser Output leistet einen Beitrag zu folgendem(n) Ziel(en) für nachhaltige Entwicklung

  1. SDG 7 – Erschwingliche und saubere Energie
    SDG 7 – Erschwingliche und saubere Energie

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Modelling of ion-induced charge generation in high voltage diodes“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

Dieses zitieren