MBE growth of ternary SnGeSiGe superlattices

W. Dondl, E. Silveira, G. Abstreiter

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

5 Zitate (Scopus)

Abstract

Short period α-Sn/Ge/Si/Ge superlattices have been prepared on (001) Ge substrates by a low temperature molecular beam epitaxy (MBE) technique that allows large substrate temperature variations. LEED patterns show a good crystalline quality. Folded acoustic phonons of the superlattice structure are clearly visible in Raman spectroscopy. Their energetic positions are in good agreement with theoretical expectations.

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)400-404
Seitenumfang5
FachzeitschriftJournal of Crystal Growth
Jahrgang157
Ausgabenummer1-4
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2 Dez. 1995

Fingerprint

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