Magnetization reversal in FM/AF/FM trilayers: Dependence of AF thickness

V. R. Shah, C. Schanzer, P. Böni, H. B. Braun

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

2 Zitate (Scopus)

Abstract

Magnetic profiles of FM/AF/FM trilayers (FM=ferromagnet, AF=antiferromagnet), as a function of AF thickness t have been investigated by bulk magnetization and polarized neutron reflectivity measurements. DC magnetization results show a t-dependence of the magnetization reversal. From the analysis of polarized neutron reflectivity in conjunction with the DC magnetization we conclude that the thickness dependence of magnetization reversal is a direct consequence of domain wall formation across NiO.

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)484-487
Seitenumfang4
FachzeitschriftJournal of Magnetism and Magnetic Materials
Jahrgang286
AusgabenummerSPEC. ISS.
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - Feb. 2005

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Magnetization reversal in FM/AF/FM trilayers: Dependence of AF thickness“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

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