Hydrosilylation of crystalline silicon (111) and hydrogenated amorphous silicon surfaces: A comparative x-ray photoelectron spectroscopy study

A. Lehner, G. Steinhoff, M. S. Brandt, M. Eickhoff, M. Stutzmann

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

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Abstract

A study was performed on hydrosilylation of crystalline silicon (111) and hydrogenated amorphous silicon surfaces. The x-ray photoelectron spectroscopy was used to analyze the resulting chemical surface structure. It was shown that the results demonstrated successful hydrosilylation on both substrate materials.

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)2289-2294
Seitenumfang6
FachzeitschriftJournal of Applied Physics
Jahrgang94
Ausgabenummer4
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 15 Aug. 2003

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Hydrosilylation of crystalline silicon (111) and hydrogenated amorphous silicon surfaces: A comparative x-ray photoelectron spectroscopy study“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

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