Effizientes chemisch-mechanisches Polieren (CMP) Gesteigerte Effizienz durch kleine Mengen anforderungsgerecht ausgewählter konditionierter Poliersuspensionen

C. Trum, R. Rascher, M. Zäh

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

Abstract

Chemo-mechanical polishing plays a vital role in the production of highly precise, optically effective surfaces. The polishing suspension for this is usually prepared for all processes in one place. Thus, it is not possible to adjust the suspension in type and condition to the materials to be processed. This article addresses the opportunities and challenges offered by using small amounts of selectively conditioned polishing slurry.

Titel in ÜbersetzungEfficient chemo-mechanical polishing - Greater efficiency by small amounts of well-elected and conditioned polishing suspension
OriginalspracheDeutsch
Seiten (von - bis)174-179
Seitenumfang6
FachzeitschriftWT Werkstattstechnik
Jahrgang108
Ausgabenummer3
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2018

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Effizientes chemisch-mechanisches Polieren (CMP) Gesteigerte Effizienz durch kleine Mengen anforderungsgerecht ausgewählter konditionierter Poliersuspensionen“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

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