Confined plasmons in shallow etched quantum wires

R. Strenz, V. Rosskopf, F. Hirler, G. Abstreiter, G. Bohm, G. Trankle, G. Weimann

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

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Abstract

Resonant Raman scattering and FIR transmission spectroscopy is used to detect confined plasmons in shallow etched GaAs/AlGaAs single quantum well wires. Different samples with varying period lengths and wire widths are investigated. The lateral potential modulation can be estimated by analysing spatially direct and indirect luminescence. We find deviations from the simple model that uses a 2D plasmon dispersion relation and wavevectors corresponding to integral numbers of half wavelengths in the confined region.

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer011
Seiten (von - bis)399-403
Seitenumfang5
FachzeitschriftSemiconductor Science and Technology
Jahrgang9
Ausgabenummer4
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1994

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Confined plasmons in shallow etched quantum wires“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

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